在真空測量實踐中, 用真空規和真空儀器比較精確地去測量被研究的稀薄氣體壓力, 以達到預期的目的, 必須考慮以下3 個問題: ① 了解被研究的對象; ② 根據研究對象的情況和研究的目的, 正確選用真空規; ③ 研究真空規與被測對象之間的相互作用。如果不能很好地解決上述3個方面的問題, 將會引起較大的誤差, 甚至發生明顯的錯誤。

      從真空應用角度看, 在一些特定的場合(如高能研究、空間技術等) 要求有較高的測量精度(誤差<1% ) 。因此,這樣的高精度, 對于粗低真空范圍(1E5～1E2 Pa ) 的真空測量來說是容易滿足的, 但在高真空的范圍(1E-1 ～1E-5 Pa ) 內, 需經過努力才能達到。

       全超導托卡馬克裝置是一個大型復雜裝置,真空系統是該裝置的重要組成部分之一。真空度的有效監測與控制將直接影響到等離子體質量,進而影響到光束的強度、能量和等級。托卡馬克裝置等離子體放電所需的真空度在1E-4 ～1E-1Pa 范圍內, 為了準確地監視真空系統的工作狀態, 首先必須精確地測量真空度。為此, 作者自行研制了一套真空校準系統, 借助副標準真空計并通過比對法, 對工作用真空規及儀器進行標定和校準, 以提高被校規的精密度和準確度。

實驗原理

       靜態膨脹法被用于相對真空規(電離規) 的校準。在等溫條件下, 將已知體積和壓力的小容器中的永久氣體膨脹到已知體積的低壓大容器中, 根據波義耳定律計算出膨脹后的氣體壓力。膨脹法校準系統是靜態校準系統, 它的最大優點是真空系統中的氣流分布是一種較理想的隨機狀態, 能夠滿足氣體分子運動論的基本假設 。

單級靜態膨脹校準系統的原理, 如圖1 所示。

      圖1 中V1、V2、V3分別為氣源室、膨脹小室和校準室的體積; p0、p分別為氣源室和校準室的壓力;W 1～W 5 為管道閥門。

       當系統各部分抽至本底壓力,關閉閥W2、W4和W5,使校準室和氣源室處于靜態真空。氣體樣品經閥W1送入氣源室,達到所需壓力p0即關閉W1。通過閥W3和W4的開關作用, 將膨脹小室中已知壓強和體積的氣體,一次一次地膨脹到校準室。假定膨脹是等溫的,而且沒有氣體損耗, 則第一次膨脹后, 校準室的壓力可表示為

       其中, p 是校準室在靜態下的本底壓強, 它比被校最低壓力低2個數量級,因而可以忽略。