校準氣體漏率的正壓漏孔校準裝置結構組成
在航天產品研制和生產中,正壓檢漏技術已被廣泛地采用,最常用的是皂泡法和水泡法。由于對正壓檢漏的可靠性提出了更高的要求,需采用質譜檢漏技術,因此要用正壓漏孔對質譜檢漏儀進行標定,從而提出了正壓漏孔的校準問題。
國內外對真空漏孔(漏孔的一端為大氣壓,另一端為真空)的校準技術研究得比較成熟,已經研制了多種測量原理的校準裝置,并在不同校準裝置間進行了比對研究。對于正壓漏孔的校準,因為受到正壓檢漏定量性差和校準條件比較苛刻的限制,研究工作只是剛剛開始。
通過對各種真空漏孔和正壓漏孔校準方法的比較和分析,提出了正壓漏孔的校準方法,并利用已建的氣體微流量標準裝置和現有的儀器設備,對正壓漏孔的校準方法進行了實驗研究。在大量理論分析和實驗研究的基礎上,研制了正壓漏孔校準裝置。
正壓漏孔的校準裝置
正壓漏孔是在給定溫度和入口壓力的條件下,正壓漏孔校準裝置由定容法校準系統和定量氣體動態比較法校準系統兩部分組成,如圖1 所示。
圖中,1,2 為氣瓶;3,4,7,11,15,19,21為截上閥;5為待校漏孔;6,8,13為絕對式電容規;9為三通閥;10為標準容積;12為定容室I;14為差壓式電容規;16為針閥,12為定容室Ⅰ";14為差壓式電容規;16為針閥,17為定容室Ⅱ;18,28為插板閥;20為小孔;22,26為冷陰極規,23為四極質譜計;24為質譜分析室;25為限流孔;27為抽氣室;29為濺射離子泵;30,31,33為分子泵;32,34 為機械泵。
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