密封器件壓氦和預(yù)充氦細檢漏的等效標(biāo)準(zhǔn)漏率上限
利用經(jīng)典的分子流、黏滯流、過渡流流導(dǎo)公式及圓管分子流流導(dǎo)幾率的精確數(shù)值解,對21 世紀(jì)數(shù)篇文獻呈現(xiàn)的漏孔流導(dǎo)隨上游壓力變化關(guān)系曲線進行了分析,并將密封器件的漏孔簡化為長圓管,得出了以下結(jié)論:從流量角度觀察氣流是否偏離分子流狀態(tài)是非常不靈敏的,因此可以認為,如果上游壓力不超過1 × 105Pa,對于等效標(biāo)準(zhǔn)漏率L < 1.4 Pa.cm3/ s 的漏孔,氣流大致處于分子流狀態(tài);當(dāng)任務(wù)允許的L 最大值Lmax 《 14 Pa.cm3 / s 時,不論L 的值是大是小,均不必考慮氣流是否偏離分子流狀態(tài);僅在壓氦法的壓氦階段,當(dāng)L max和L 均接近1.4 Pa.cm3/ s 時,從流量角度氣流會處于黏滯流狀態(tài),導(dǎo)致合格判據(jù)偏保守;而在壓氦法的其他階段和預(yù)充氦法各階段,只要L < 14 Pa.cm3/ s,氣流均處于分子流狀態(tài)。從而證明對于密封器件氦質(zhì)譜細檢漏而言,L max取1.4 Pa.cm3/ s 可以滿足氣流處于分子流狀態(tài)的要求,且該值大于粗檢的下限。
文獻指出,對密封器件進行氦質(zhì)譜細檢漏時,若試件有大漏,或者內(nèi)部容積很小,以致封閉在試件中或轟擊到試件中的氦有可能在質(zhì)譜檢漏儀試驗之前就已逃逸,因此必須使用其它方法來對這些試件進行檢漏試驗,如氣泡試驗、充液法或質(zhì)量變化試驗。也就是說,使用密封器件氦質(zhì)譜細檢漏的必要條件是存在可檢漏率與之相銜接的粗檢方法,二者必須配合使用。
文獻指出,氟油加壓高溫液體法最小可檢漏率為100 Pa.cm3/ s 或更;利用薄膜差壓傳感器制造的壓力變化檢漏儀最小可檢漏率為100Pa.cm3/ s,一般手動檢測時單個密封器件檢測時間在10 s 左右,在使用多工位全自動檢測設(shè)備時檢測一個密封器件的平均時間最小僅為1 s。如果被檢器件的漏率要求再嚴(yán)格一些,比如最大允許漏率為1 × 100 Pa.cm3/ s( 甚至到1 × 10-1 Pa.cm3/ s) ,通過延長檢漏時間,也是可以滿足要求的。這是可檢漏率最小的兩種粗檢方法。
密封器件氦質(zhì)譜細檢漏壓氦法( 即背壓法) 的創(chuàng)始人D. A. Howl 等指出,壓氦法的計算公式僅適用于完全分子流下的漏孔。這一結(jié)論同樣適合于預(yù)充氦法。而為了與上述兩種粗檢方法相銜接,我們?nèi)∶芊馄骷べ|(zhì)譜細檢漏等效標(biāo)準(zhǔn)漏率上限L0=1.4 Pa.cm3/ s。本文分析這一上限的合理性,并將小于此上限的漏孔簡化為長徑比相當(dāng)大的圓管。
1、已有的經(jīng)典公式及精確數(shù)值解
對于同一根管道而言,當(dāng)上游(俗稱進氣口) 壓力低時,該管道處于分子流下;當(dāng)上游壓力高時,該管道處于黏滯流下。根據(jù)文獻,漏率是在規(guī)定條件下,一種特定氣體通過漏孔的流量。而流量q 是在給定時間間隔內(nèi),流經(jīng)截面的氣體量( 壓力-體積單位) 除以該時間。q 等于流導(dǎo)U 乘以兩端壓差
q= U(p1- p2) (1)
式中,p1 為管道上游的氣體壓力,p2 為管道下游( 俗稱出氣口) 的氣體壓力。密封器件氦質(zhì)譜細檢漏過程中總是p2 《p1,所以式( 1) 可以簡化為
q= Up 1 (2)
1.1、分子流
圖1 修正后的Wm 隨l / d 變化的關(guān)系曲線圖
從圖2 可以看到,Wl,m相對于修正后的Wm 的誤差隨l / d 增加而降低,當(dāng)l/d》2 時,在雙對數(shù)圖上誤差曲線具有良好的線性,其擬合公式如圖中所示。
由于這兩種認識大相徑庭,且涉及使用密封器件氦質(zhì)譜細檢漏的必要條件,非常有必要澄清孰是孰非。為此,在以上分析的基礎(chǔ)上和p2 《 p 1 的前提下進行以下討論:
(1) 當(dāng)p1 低到一定程度表現(xiàn)為分子流時,若用粘滯流流導(dǎo)公式計算,得到的流導(dǎo)值就會低于實際值;而當(dāng)p1 高到一定程度表現(xiàn)為黏滯流時,若用分子流流導(dǎo)公式計算,得到的流導(dǎo)值也會低于實際值。
(2) 隨著p1 不斷增高,一旦流導(dǎo)開始增加,就認為氣流狀態(tài)已偏離分子流,即從流導(dǎo)角度觀察氣流是否偏離分子流狀態(tài)是非常靈敏的;而從流量角度,僅當(dāng)流量的增加明顯偏離線性時,才認為氣流已偏離分子流狀態(tài),即從流量角度觀察氣流是否偏離分子流狀態(tài)是非常不靈敏的?紤]到密封器件氦質(zhì)譜細檢漏的漏率測量并不精密,情況更是這樣。
(3) 密封器件漏孔尺寸為l = 0.1 mm,d = 2.26Lm 和l= 1 mm,d = 4.87 Lm 兩種情況、分子流下的L 都約為1.4 Pa.cm3/ s,是L 0= 1.4 Pa.cm3/ s 合理性驗證所需要的漏孔尺寸,按此要求衡量,泄漏閥改裝成的恒定流導(dǎo)顯得太粗,且過長;激光打孔雖然是目前最精細的打孔技術(shù),但仍嫌粗,且太短,所以還無法實驗測定密封器件當(dāng)L 為1.4 Pa.cm3/ s 時,在壓氦法或預(yù)充氦法過程中是否明顯偏離分子流狀態(tài)。
(4) 換個角度來看,如果p1達到標(biāo)準(zhǔn)漏率要求的1.01 × 105 Pa,第2 節(jié)四個示例所用的漏孔的流量均遠大于1.4 Pa.cm3/ s,說明這四個示例所用漏孔對于L0= 1.4 Pa.cm3/ s 的合理性驗證而言都不夠微小。
(5) 相對比較四個示例,文獻和文獻使用激光打孔得到的漏孔,l 與d 處于同一量級;而文獻使用泄漏閥改裝成的漏孔,l 》 d ,所以文獻[ 13] 的結(jié)果更有參考意義。關(guān)注偏離分子流狀態(tài)的p1值,我們注意到,即使從流導(dǎo)角度來看,文獻]比文獻和文獻也高得多。特別是從圖10可以看到,當(dāng)p1 = 2 × 104 Pa 時,流量已達到1.3 ×10-5 Pa.m3/ s,仍基本處于分子流狀態(tài),按照圖8 的趨勢估計,即使p 1= 1 × 105 Pa 時,還不會脫離分子流狀態(tài),這是L < 1.4 Pa.cm3/ s 的漏孔基本處于分子流狀態(tài)的重要佐證。
(6) 對于Lmax遠低于1.4 Pa.cm3/ s 的密封器件( 例如空氣嚴(yán)酷等級要求高的軍品密封器件) ,即使在壓氦法的壓氦過程中,漏率合格的產(chǎn)品從流量角度也不會處于黏滯流狀態(tài),而漏率不合格的產(chǎn)品只要保證候檢時間不超過最長候檢時間,就可以通過測量漏率報警或粗檢剔除。這里并不直接涉及接近1.4 Pa.cm3/ s 的標(biāo)準(zhǔn)漏率是否偏離分子流狀態(tài)的問題。
(7) 僅當(dāng)L max 接近1.4 Pa.cm3/ s,且密封器件的L 也接近1.4 Pa.cm3/ s 時,在壓氦法的壓氦過程中,由于壓氦壓力一般在2 × 105 Pa 以上,由圖13 和圖16 可以看到,從流量角度會處于黏滯流狀態(tài)。與按照分子流狀態(tài)的計算值相比,流量偏大,因而壓氦結(jié)束后密封器件內(nèi)部的氦分壓也會偏大,導(dǎo)至測量漏率偏大,即偏保守。
(8) 在壓氦法的候檢期間和氦質(zhì)譜檢測期間,密封器件內(nèi)部的氦分壓通常明顯低于1 × 105Pa,因而L < 1.4 Pa.cm3/ s 的產(chǎn)品從漏率角度處于分子流狀態(tài)。
(9) 對于預(yù)充氦法而言,密封器件內(nèi)部的氦分壓通常低于1 × 105 Pa,因而L < 1.4 Pa.cm3/ s 的產(chǎn)品從漏率角度可以認為處于分子流狀態(tài)。
5、結(jié)論
對于密封器件氦質(zhì)譜細檢漏而言,L 上限取1.4 Pa.cm3/ s 可以滿足氣流處于分子流狀態(tài)的要求,且此上限大于粗檢的下限。