本文使用AIP- 01型國產多弧離子鍍膜設備，采用不同的弧源電流在不銹鋼襯底及Si 片上制備了TiN 薄膜，對其硬度、表面形貌以及摩擦系數等進行了測試，從電弧沉積的物理機制角度詳細分析了弧源電流對TiN 薄膜表面熔滴的影響，結果表明：隨著弧源電流的增大，薄膜沉積速率增大、硬度提高，但薄膜表面熔滴(MP)數量增多、尺寸變大，表面粗糙，摩擦系數增大，因此控制最佳弧源電流來獲得最好的薄膜性能是離子鍍TiN 薄膜的關鍵問題之一。

　　TiN 薄膜具有較高的硬度和優良的耐磨、耐腐蝕性能，是目前研究最多的硬質薄膜之一，廣泛應用于電子、工模具以及裝飾行業等。近幾十年來，由于具有金黃色的顏色，TiN 薄膜在裝飾行業已經成功地獲得了廣泛的應用，在機械行業，TiN 薄膜在刀具、鉆頭、模具上也獲得了成功的應用，可顯著提高其使用壽命，但TiN 薄膜的性能受沉積條件的影響很大，人們對于影響TiN 薄膜性能的各種參數已進行了大量的研究，而弧源電流作為一個重要的參數，對TiN 薄膜的結構及性能有重要的影響，尤其是對其摩擦學性能影響更為顯著。

　　本文利用AIP- 01 型多弧離子鍍膜機在不銹鋼基體及Si 片上沉積了TiN 薄膜，從多弧離子鍍原理上研究了弧源電流對TiN 薄膜結構及摩擦學性能的影響。

1、實驗材料與方法

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2、實驗結果及分析

2.1、弧源電流對TiN薄膜表面形貌的影響

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2.2、弧源電流對TiN薄膜沉積速率的影響

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2.3、弧源電流對TiN薄膜硬度的影響

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2.4、弧源電流對TiN薄膜摩擦系數的影響

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3、結論

　　使用多弧離子鍍設備制備了TiN 薄膜，詳細研究了弧源電流對制備的TiN 薄膜性能的影響規律，隨著弧源電流的增大，多弧離子鍍設備真空室溫度升高，薄膜沉積速率增大，所制備的TiN薄膜表面的熔滴顆粒數量增多，尺寸變大，導致薄膜表面粗糙度增大，摩擦系數升高，但是，隨著弧源電流的增大，TiN 薄膜的硬度升高。