摘　要：本文利用非平衡磁控濺射設備,采用四種不同的TiN到Ti-O的過渡方式,在Si(100)和Ti6A14V基體上制備了TiN/Ti-O薄膜.采用X射線衍射(XRD)分析薄膜的結構;使用AMBIOSXP-2臺階儀檢測薄膜應力;利用XDl000B knoop型顯微硬度儀、瑞士CSEM銷盤摩擦磨損實驗機、WS-97系統劃痕實驗機對薄膜的力學性能進行檢測.結果表明,在鈦合金表面制備TiN薄膜后,逐漸降低N2流量至0 sccm,沉積一層Ti膜,再用逐漸通入O2制備Ti-O薄膜的工藝制備的TiN/Ti-N/Ti/Ti-O薄膜具有較好的力學性能.

　　關鍵詞：TiN/Ti-O復合薄膜;非平衡磁控濺射;耐磨性;膜基結合力

　　分類號：TB34　文獻標識碼：A

　　文章編號：1672-7126(2008)增刊-047-05

Mechanical Properties of TiN/Ti-O Composite Films Grown by Unbalanced Magnetron Sputtering

He Chan　 Qi Feng　 Leng Yongxiang　 Huang Nan