用高能粒子(通常是由電場加速的正離子)轟擊固體表面，固體表面的原子、分子與入射的高能粒子交換動能后從固體表面飛濺出來的現象稱為濺射。濺射出來的原子(或原子團)具有—定的能量，它們可以重新沉積凝聚在固體基片表面上形成薄膜，稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離，其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶材，擊出陰極靶材的原子或分子，飛向被鍍基片表面沉積成薄膜。

　　濺射鍍膜現象

　　具有一定能量的離子入射到靶材表面時，入射離子與靶材中的原子和電子相互作用，可能發生如圖1 所示的一系列物理現象，其一是引起靶材表面的粒子發射，包括濺射原子或分子、二次電子發射、正負離子發射、吸附雜質解吸和分解、光子輻射等；其二是在靶材表面產生一系列的物化效應，有表面加熱、表面清洗、表面刻蝕、表面物質的化學反應或分解；第三是一部分入射離子進入到靶材的表面層里，成為注入離子，在表面層中產生包括級聯碰撞、晶格損傷及晶態與無定型態的相互轉化、亞穩態的形成和退火、由表面物質傳輸而引起的表面形貌變化、組分及組織結構變化等現象。

圖1 入射荷能離子與靶材表面的相互作用

　　被荷能粒子轟擊的靶材處于負電位，所以也稱濺射為陰極濺射。將物體置于等離子體中，當其表面具有一定的負電位時，就會發生濺射現象，只需要調整其相對等離子體的電位，就可以獲得不同程度的濺射效應，從而實現濺射鍍膜，濺射清洗或濺射刻蝕以及輔助沉積過程。濺射鍍膜、離子鍍和離子注入過程中都利用了離子與材料的這些作用，但側重點不同。濺射鍍膜中注重靶材原子被濺射的速率；離子鍍著重利用荷能離子轟擊基片表層和薄膜生長面中的混合作用，以提高薄膜附著力和膜層質量；而離子注入則利用注入元素的摻雜、強化作用，以及輻照損傷引起的材料表面的組織結構與性能的變化。荷能粒子轟擊固體表面產生各種效應的發生幾率見表1。

表1 粒子轟擊固體表面所產生各種效應的幾率