摘　要：采用高純鋁、鈦兩個靶材,分別在純鈦TA2和鈦合金TC11基材上沉積制備了TiAlN膜層.用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察了膜層的形貌、用能譜儀(EDS)分析了膜層的成分.結果表明:在不同基材上沉積的膜層表面形貌存在差異;兩種工藝在不同的基材上沉積的膜層中N、Al和Ti元素呈梯度分布,可明顯的觀察到界面處存在這三種元素的互擴散,使膜層與基體間形成冶金結合.

　　關鍵詞：電弧離子鍍;TiAlN;組織;成分

　　分類號：TG146.2　文獻標識碼：A

　　文章編號：1672-7126(2008)增刊-064-04

Influence of Target Current on Microstructures and Stoichiometries of TiAlN Coating Deposited by Arc Ion Plating

Wang Shaopeng　 Pan Xiaolong　 Li Zhengxian　 Wang Baoyun　 Yan Peng　 Ji Shouchang