JB/T 8946-1999 真空離子鍍膜設備

2009-06-28 全國真空技術標準化技術委員會真空技術網整理

JB/T 8946—1999 真空離子鍍膜設備

Vacuum ion coating plant

1、范圍

JB/T 8946—1999 真空離子鍍膜設備標準規定了真空離子鍍膜設備的技術要求，試驗方法，檢驗規則，標志、包裝、運輸和貯存等。

本標準適用于壓力在10-4~10-3Pa范圍的真空離子鍍膜設備（以下簡稱設備），具體包括如下類型：多弧離子鍍、電弧放電型真空離子鍍、空心陰極離子鍍（HCD）、射頻離子鍍（RFIP）、直流放電二極型（DCIP）、多陰極型、活性反應蒸發鍍（ARE）、增強型ARE、低壓等離子體離子鍍（LFPD）、電場蒸發離子鍍、感應加熱離子鍍、簇團離子束鍍等。

注：離子鍍是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時，把蒸發物或其反應物沉積在基片上。

2、引用標準

下列標準所包含的條文，通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。本標準出版時，所示版本均為有效。所有標準都會被修訂，使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性。

GB/T 6070—1995 真空法蘭

GB/T 11164—1999 真空鍍膜設備通用技術條件

3、技術要求

3.1設備正常工作條件

3.1.1 環境溫度：10℃~30℃。

3.1.2 相對濕度：不大于75%。

3.1.3 冷卻水進水溫度：不高于25℃。

3.1.4 冷卻水質：城市自來水或相當質量的水。

3.1.5 供電電源：380 V三相50 Hz 或220 V單相50 Hz（由所用電器需要而定）；